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2002蓝宝石研磨液
本品是由高分子润滑剂、极压抗磨剂、防锈剂、抗氧剂、螯合剂、消泡剂、杀菌防腐剂合成的研磨抛光液。适用于蓝宝石衬底与其他硬质材料的粗抛与精抛的平整化加工,加工速率高,表面平整度、粗糙度达到国际先进水平,具有加工效率高、使用寿命长的特点,且光洁度高,悬浮性强,易清洗,完全可以替代同类进口产品。通常只需配合研磨抛光设备使用,本品不含苯酚、氯化石蜡、亚硝酸盐、磷和重金属等受控物质。

一、技术参数


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       典型应用行业:光学行业、微电子行业、精密铸造行业。

       用于硅单晶片、砷化镓片、碳化硅、蓝宝石晶片、半导体化合物晶片、硬盘盘片、芯片、宝石、石英、硬质玻璃、光学镜片等领域的研磨抛光。


(一)使用方法:


①工艺条件和物理指标:

       

       密度(g∕cm3):1.38±0.02,PH=7.3±0.02,粘度(mPa.S):<10。


②操作流程:

       待洗研磨抛光工件研磨机研磨抛光清洗进入下道工序。


③可原液使用,或用纯水稀释2-3倍后使用。


(二)注意事项:


       ①在使用本品时,不可混入其它药液和酸性、碱性物质;

       ②若不慎溅入眼中,立即用清水冲干净即可;

       ③使用本品的槽、箱在加入本品前必须清洗干净(把玻璃粉等物质清除干净),如果槽、箱中有其它残液,会影响本品性能;

       ④如果设备原来用的工作液已产生细菌、发臭,建议添加杀菌剂在研磨机内循环,以便管道系统内、磨盘等地方的细菌清洗干净;


(三)效果图对比:


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(四)溶液维护:


       经验补加法:应定期补加或更换新液(建议每3-5天更换新液一次,具体视实际情况而定)。


(五)故障排除:

       




二、产品特点


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       1、本品是由高分子润滑剂、极压抗磨剂、防锈剂、抗氧剂、螯合剂、消泡剂、杀菌防腐剂合成的研磨抛光液。适用于蓝宝石衬底与其他硬质材料的粗抛与精抛的平整化加工,加工速率高,表面平整度、粗糙度达到国际先进水平,具有加工效率高、使用寿命长的特点,且光洁度高,悬浮性强,易清洗,完全可以替代同类进口产品。通常只需配合研磨抛光设备使用,本品不含苯酚、氯化石蜡、亚硝酸盐、磷和重金属等受控物质。

       2、型号:2002蓝宝石研磨液

       3、保存与运输:25㎏∕桶塑料桶包装。储存于阴凉干燥处。按非危险品储运。保质期壹年。

       4、本品特点:

  • 去除速率高,抛光效果好,抛光表面粗糙度好,光洁度佳无划伤;

  • 本品有良好的冷却性与防锈性、润滑性、耐高温(高达1600-1800度);

  • 具有良好的防腐性与防锈性,对提高工件表面光洁度和延长研磨设备的使用寿命具有显著效果,本品配有螯合剂,故在研磨抛光过程中能有效加速循环液中碎屑等杂质快速沉淀,从而提高本品的耐用性;

  • 本品无刺激性气味、无毒,对环境无污染;

  • 分散性渗透性能极好,耐磨性好,与传统抛光粉相比,本品操作简便、抛光表面易清洗、在抛光设备以及抛光垫上无沉积

  • 贮存时应避免曝晒,贮存温度为0-40℃,避免敞口长期与空气接触。




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